＜用語について＞
・「陰線」「陰面」
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授業でかなりしつこく指摘したと思うのだが，「隠線」や「隠面」を「陰線」「陰面」と書く人が複数いた．

＜オフセット量＞
・オフセット量を決める際の第二引数が結局どういう意 味なのかが分からないままだった。
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本来の奥行き値が z で合った場合に，「第一引数 × z + 第二引数」の値を奥行き値として用いるということである．

＜章末課題「隠面消去の効果」 - 1＞
・隠線消去を行わないことでガラスのように立方体の後ろ側の色が透けて見えるように なっている。
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透明という表現には違和感がある．前後関係がおかしいのであって，透明には見えないと思うのだが…

＜章末課題「隠面消去の効果」 - 2＞
・暗い黄色の面は、回転させてもどの色の 面からも影響を受けないことが分かった。つまり、どの色の面の後ろに隠れることはない。
・ここでは、隠面消去が行われていないので、裏側の暗くなっている面が手前に出てきてしまうという現象が起きている。
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もう一つ突っ込みが欲しい．暗い面はなぜ隠されないのだろうか？

＜章末課題「隠面消去の効果」 - 3＞
・実際に複数の立方体を表示してみたが、隠面消去がな い場合には、視点によっては立方体の前後関係が正しく表示されなかった(図 6)。
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プログラムで試してみるということは重要．複数立体ということでは，円錐の隠線消去のプログラムであっても，DEPTH_TESTの影響を確認できるだろう．


＜章末課題「立方体の隠線表示」 - 1＞
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立方体の稜線の描画にあたって，GL_LINES, GL_LINE_STRIP, GL_LINE_LOOPなどが利用されていた．
GL_LINE_STRIPを用いると立方体の各面(四角形)の描画にあたって最初の頂点を最後にも指定する必要が生じるので，GL_LINE_LOOPの方が良いだろう．これらはいずれも，面(四角形)ごとにループを閉じないと，面上に妙な対角線が表示されてします．また，GL_LINE_STRIPならびにGL_LINE_LOOPでは，それぞれの四角形に関して全ての稜線を描くために，稜線を二度描きすることになる．個人的には，各稜線をGL_LINESを用いて一度ずつ描く方法が好ましいと思う．

＜章末課題「立方体の隠線表示」 - 2＞
・何かのオブジェクトをワイヤーフレーム表示できる関数があれば便利である が、それを手動でかくのはやや非効率である。調べてみたら、そのような関数として glPolygonModeという関数がライブラリに入っているそうだ。ポリゴンの場合は引数に GL_FRONTとGL_LINEを指定すれば外形が表示されるらしい。
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glPolygonModeで GL_LINE を指定すると，GL_POLYGON が GL_LINE_LOOPと同じになる．今回の課題ではあまり役に立たないと思う．

＜成績評価＞
・創作課題を作らなかった場合どのくらいの評価になるのでしょうか?
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創作課題とは最終回の課題を意図しているのだろうか？1学期間を通してレポートを評価し，採点を行なう．最終回だけにウェートがあるわけではない．

＜課題の評価＞
・2 回続けて B+ だったが、どこに不備があるのかわからなかった。
・同じ物足りないでも二段階くらい違うのはなぜでしょうか...。 あと評 価の基準を教えてほしいです。(出したらとりあえずC以上、ちゃんとできていたら A、...みたいなのを教えてほしいです。)
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標準を超えいれば「A」，標準程度であれば「B」，標準に達していなければ「C」という具合で，当初は少し甘めに採点していた．評価は基本的に考察に対して行なわれており，徐々に考察のウェートも上がっている．また評価は相対的な部分もあるので一概に言うことは難しい．このことはレポート6の昨年のコメントの中でも少し書いてある．